第二百三十章 光刻机研发成功 (第2/3页)
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6纳米制程工艺，甚至开始向着24纳米制程工艺进发。
现在自己国家研发出来，能够量产的10纳米制程工艺的光刻机，可以说已经非常接近现在全球最为顶尖的水平。
从普遍128纳米水平提升到10纳米制程工艺，这样的跨度可谓是非常的巨大，要知道像外国的这种半导体行业的领导者可是花费了二十年的时间。
而现在华国可谓是采用了另外一种方式实现了弯道超车，一下子将工艺提升到了10纳米制程水平。
这让华国在科研技术方面拥有着更加强大的背后支持力。
“这件事暂时还是需要保密的，等到研发出7纳米光刻机再公开！”
由于光刻机的研发技术是目前华国最为重要的科研项目之一，自然而然在没有完全的研发处7纳米制成工艺的光刻机之前，暂时还是需要进行项目保密。
唐浩也是在第一时间知道了光刻机成功研发出来的新消息。
不过由于现在的技术还没到完全值得公布的时候，唐浩还是需要暂时保密光刻机的消息。
毕竟国产光刻机的出现可谓是能够打破现在全球科技的格局，华国能够靠着自研光刻机成功的话，自然在整个全球科技之中拥有着自己的一席之地。
不过唐浩也在准备等到光刻机完全的实现量产之后，也成立一家半导体生产的工厂，专门负责自家处理器芯片的生产。
同时在工厂设立专门的半导体材料研发，去研发全新的碳基材料，去代替原先的半导体生产的硅材料。
现在的唐浩的心中已经有了对于自家半导体公司的想法，他相信到时候若是这家公司研发出了全新的半导体材料，必然能够使得处理器芯片的功耗性能再上一个台阶。
同时也能够真正的使自家手机完全的实现，自给自足。
要知道现在的公司内部，除了研发处理器芯片之外，对于闪存和运存等多种芯片都开始进行研发，为的就是能够真正的将命脉技术掌握在自家公司手上。
按照现在半导体研发的进度和量产的时间，估计要等到明年的年中才能够购买到这些光刻机，自家公司只有等到明年年底才能够真正的实现自主研发，自主生产。
毕竟半导体芯片的生产需要相应无尘的车间环境，同时也需要大量的电和水以及通风设施，光刻机生产芯片对于环境的要求是非常严格的，而这些都是需要花费大量时间去布置的。
同时公司还要去招募一些专门的科研
